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微刻用光刻胶组合物中的溶解抑制剂

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摘要

本发明涉及一种光刻胶组合物，其包含聚合粘结剂；光敏组分；和至少一种溶解抑制剂，所述溶解抑制剂包含含有至少一个具有以下结构－C(R

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2006-11-15

发明专利申请公布后的视为撤回

发明专利申请公布后的视为撤回
2004-10-06

发明专利公报更正更正卷:20 号:3 页码:320 更正项目:优先权误:[31]09/987,410[31]60/260,759 正:[31]09/687,410[31]60/260,759 申请日:20011012

发明专利公报更正
2004-10-06

发明专利申请公开说明书更正卷:20 号:3 页码:扉页更正项目:优先权误:[31]09/987,410[31]60/260,759 正:[31]09/687,410[31]60/260,759 申请日:20011012

发明专利申请公开说明书更正
2004-03-31

实质审查的生效

实质审查的生效
2004-01-21

公开

公开

1. 微刻用光刻胶组合物中的溶解抑制剂 [P] . 中国专利： CN1470010A . 2004-01-21
2. 微光刻技术用光刻胶组合物中的溶解抑制剂 [P] . 中国专利： CN1849557A . 2006-10-18
3. Dissolution inhibitors in photoresist compositions for microlithography [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1914596A2 . 2008-04-23

机译：用于微光刻的光刻胶组合物中的溶解抑制剂
4. Dissolution inhibitors in photoresist compositions for microlithography [P] . 美国专利： US2007134585A1 . 2007-06-14

机译：用于微光刻的光刻胶组合物中的溶解抑制剂
5. Dissolution inhibitors in photoresist compositions for microlithography [P] . 美国专利： US7108953B2 . 2006-09-19

机译：用于微光刻的光刻胶组合物中的溶解抑制剂