使用脉动宽带光源原位监测等离子体刻蚀和淀积工艺的方法和装置

摘要

一种用于使用一个提供高瞬时功率脉冲和具有宽光谱宽度的脉冲闪光灯、原位监测薄膜厚度以及刻蚀或淀积速率的干涉测量方法和装置。闪光灯与用于检测从一晶片反射的光的光谱摄制仪之间的光路实质上对于光谱的紫外线区是可透射的。利用软件算法计算膜厚度以及刻蚀和淀积速率。