在半导体器件制造中减小非均匀区影响的方法和设备

摘要

在制造集成电路的各个工序中能影响邻近晶片周边的芯片质量的非均匀边缘效应可被减小。这是用只在邻近晶片周边区域印制芯片的图形时增大分步重复曝光机的曝光面积来实现的。因此在有用的图形区外也印制附加的无用图形区以减小非均匀效应。这样就增加了印制设备的产量。