公开/公告号CN1184715A
专利类型发明专利
公开/公告日1998-06-17
原文格式PDF
申请/专利权人 三菱电机株式会社;大阳东洋酸素株式会社;
申请/专利号CN97121532.4
申请日1997-10-24
分类号B05B7/04;B08B3/02;
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人郭洪新;杨松龄
地址 日本东京都
入库时间 2023-12-17 13:08:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-11-24
专利权有效期届满 IPC(主分类):B05B7/04 授权公告日:20021106 申请日:19971024
专利权的终止
2002-11-06
授权
授权
1998-06-17
公开
公开
1998-05-20
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
机译: 2两流体清洗射流喷嘴清洗设备和制造采用该装置的半导体设备的方法
机译: 用于清洗的两个流体设定喷嘴,清洗装置以及使用该装置制造半导体装置的方法
机译: 流体喷嘴基体清洗装置和基体清洗方法