公开/公告号CN102087482B
专利类型发明专利
公开/公告日2012-10-03
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;
申请/专利号CN201010605507.1
申请日2010-12-27
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人梁爱荣
地址 610209 四川省成都市双流350信箱
入库时间 2022-08-23 09:11:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-02-24
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20121003 终止日期:20141227 申请日:20101227
专利权的终止
2012-10-03
授权
授权
2011-07-20
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20101227
实质审查的生效
2011-06-08
公开
公开
机译: 工件台和掩模台共用的平衡质量系统以及光刻机
机译: 工件台,面罩台和光刻机共享的平衡质量系统
机译: 工件台,面罩台和光刻机共享的平衡质量系统