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光刻机工件台同步运动误差校正控制系统

摘要

本发明是一种光刻机工件台同步运动误差校正控制系统,该系统包括工控机、硅片台、掩模台、第一位置传感器、第二位置传感器、第一检测单元、第二检测单元、第一运算单元、第二运算单元、第三运算单元和第四运算单元,主要用于步进扫描光刻机中实现硅片台与掩模台同步运动误差校正。该系统采用负反馈与前馈控制相结合的同步误差复合校正控制方法,由速度环和位置环组成双闭环调速及位置控制。外环位置传感作为反馈装置,输出位置反馈信号给位置控制器。内环速度传感作为反馈装置,输出速度反馈信号给速度控制器。位置控制器根据位置反馈信号,计算并校正硅片台与掩模台同步误差。

著录项

  • 公开/公告号CN102087482B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-10-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN201010605507.1

  • 发明设计人 马平;胡松;陈磊;胡淘;

    申请日2010-12-27

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人梁爱荣

  • 地址 610209 四川省成都市双流350信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:11:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-24

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20121003 终止日期:20141227 申请日:20101227

    专利权的终止

  • 2012-10-03

    授权

    授权

  • 2011-07-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20101227

    实质审查的生效

  • 2011-06-08

    公开

    公开

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