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公开/公告号CN111599866A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-08-28
原文格式PDF
申请/专利权人 电子科技大学;
申请/专利号CN202010476792.5
发明设计人 乔明;董仕达;王正康;王卓;张波;
申请日2020-05-29
分类号H01L29/78(20060101);H01L29/423(20060101);H01L21/336(20060101);
代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);
代理人敖欢
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
入库时间 2023-12-17 11:45:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-28
公开
机译: 具有浮栅,控制栅,选择栅和在浮栅上具有突出端的擦除栅的分离栅非易失性闪存单元,阵列和制造方法
机译: 具有减小的漏源反馈电容和米勒电荷的超高密度栅栅功率器件的制造方法
机译: 具有多个电荷存储层的浮栅,制造该浮栅的方法,使用该浮栅的非易失性存储器件及其制造方法
机译:具有低功率和高可靠性的深亚微米互补金属氧化物半导体器件的具有双高k栅氧化层厚度的Pt栅/ AI_2O_3 / p-Si(100)的电和物理分析
机译:改进用于毫米波功率应用的具有U型栅脚的A1GaN / GaN HEMT的击穿特性
机译:毫米波功率应用中具有U型栅脚的AlGaN / GaN HEMT的击穿特性的改善
机译:具有固有反向传导能力和低栅极电荷的分栅垂直GaN功率晶体管
机译:新型基于氮化硅的电荷陷阱栅功率半导体器件。
机译:具有集成和发射能力的高密度低功率神经元电路分栅正反馈装置
机译:通过底栅和顶栅有机场效应晶体管中的自组装单层控制电荷注入
机译:模拟,设计和制造薄膜电阻栅Gaas电荷耦合器件。