一种图形图像联合优化的光刻掩模优化方法、装置及电子设备

摘要

本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及一种图形图像联合优化的光刻掩模优化方法、装置及电子设备。所述方法包括步骤：输入主图形；对主图形的边进行分割得到短边，以短边作为主图形优化的第一变量；在相同或者相似的主图形的周围生成相同或者相似的辅助图形采样点，以辅助图形采样点作为主图形优化的第二变量；提供以第一变量和第二变量作为优化变量的目标函数，在每个主图形的周围生成辅助图形采样点的规则是一样的，不受限于主图形的具体位置，保证最终对每个主图形优化的结果的一致性。