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在同一个衬底上制造逻辑器件和功率器件

摘要

提供了一种在衬底上形成逻辑器件和功率器件的方法。该方法包括在衬底的第一区域上形成第一垂直鳍并且在衬底的第二区域上形成第二垂直鳍,其中隔离区域将第一区域与第二区域分开,在第二区域的第二垂直鳍上形成电介质下层段,以及在电介质下层段和第二区域的第二垂直鳍上形成第一栅极结构。

著录项

  • 公开/公告号CN111433905A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国际商业机器公司;

    申请/专利号CN201880077926.7

  • 申请日2018-12-03

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人酆迅

  • 地址 美国纽约阿芒克

  • 入库时间 2023-12-17 11:24:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/84 申请日:20181203

    实质审查的生效

  • 2020-07-17

    公开

    公开

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