利用磁控溅射技术制备Mo-S-C-N自组装纳米多层薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种利用磁控溅射技术制备Mo‑S‑C‑N自组装纳米多层薄膜的方法，是将基材清洗、氮气吹干后放入磁控溅射腔体；抽真空并用高能Ar+清洗基材表面杂质，在采用直流电源溅射Ti靶材沉积中间层后同时通入氩气和氮气，通过射频电源溅射二硫化钼和碳靶材，最终得到Mo‑S‑C‑N自组装纳米多层薄膜。该薄膜呈现了自组装的纳米多层结构，具有显著改善的硬度和弹性模量，同时克服了二硫化钼薄膜的潮湿敏感性，在真空和大气环境下均具有优良的摩擦学性能。本发明在无需交替开关特定靶电源的前提下，全程使用单一溅射参数运行即可制备结构良好的纳米多层薄膜，简单易行，确保了薄膜在成分和结构上的可靠性以及工业化生产的可行性。