公开/公告号CN111415362A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-14
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN202010412950.0
申请日2020-05-15
分类号
代理机构上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张宁展
地址 201800 上海市嘉定区清河路390号
入库时间 2023-12-17 10:24:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G06T7/11 申请日:20200515
实质审查的生效
2020-07-14
公开
公开
机译: 校正半导体电路的设计图形的方法,使用正确的设计图形数据制造的光电掩模,用于检查光电掩模的方法和用于检验光电掩模的生成图形数据的方法
机译: 图形集合电子束描绘掩模,图形集合电子束描绘掩模制作方法以及图形集合电子束描绘装置
机译: 相同的光掩模,方法和装置,光掩模图形产生方法,图形形成方法和半导体装置