University of California, Berkeley.;
机译:光学仿真中具有像差和虚假掩模边缘效应的全焦点航拍图像建模
机译:极紫外光刻中掩模光谱仿真的快速模型和掩模阴影效应分析
机译:用于高级光学和EUV光刻的掩模衍射和投影成像建模
机译:使用单个计算光刻框架从设计规则,源和掩模到全芯片的优化:基于水平集方法的逆光刻技术(ILT)
机译:通过光学邻近校正来补偿极紫外光刻图像场边缘效应。
机译:弥散性光学脑成像组水平分析的随机效应模型
机译:利用单一计算光刻框架优化从设计规则,源和掩模到全芯片:基于水平集方法的逆光刻技术(ILT)
机译:用于制造亚半微米栅极长度mmIC芯片的组合电子束/光学光刻工艺步骤