source mask optimization; SMO; inverse lithography technology; ILT; level set method; mask optimization; source optimization; design rule optimization; resolution enhancement technology;
机译:计算光刻建模回顾:专注于扩展光学光刻和设计技术的共同优化
机译:针对反光刻的基于像素的稳健源和掩模优化
机译:减少计算光刻周期并提高工艺窗口可预测性的有效源掩模优化方法
机译:从设计规则,源和掩码进行优化,通过单个计算光刻框架到全芯片:基于级别的方法的逆光刻技术(ILT)
机译:基于线路搜索的掩模设计的逆光刻技术
机译:缺血性心电图逆源定位:优化框架和有限元解决方案
机译:利用单一计算光刻框架优化从设计规则,源和掩模到全芯片:基于水平集方法的逆光刻技术(ILT)
机译:低于0.15微米设计规则的点光源X射线光刻系统