首页> 中国专利> 基于Si微米孔/CuO垂直结构异质结的自驱动宽带光电探测器及其制备方法

基于Si微米孔/CuO垂直结构异质结的自驱动宽带光电探测器及其制备方法

摘要

本发明公开了基于Si微米孔/CuO垂直结构异质结的自驱动宽带光电探测器及其制备方法,是在带有绝缘层的Si基底上刻蚀形成Si微米孔阵列,再通过磁控溅射在Si孔阵列的上方沉积CuO薄膜,构建Si微米孔/CuO垂直结构异质结,然后再转移石墨烯到CuO薄膜上方作为透明顶电极、在Si基底背面刷涂底电极,即完成光电探测器的制作。本发明以高纯铜靶为靶材,利用磁控直流反应溅射,一步实现薄膜的沉积和异质结器件的制备,探测器性能优越、制备过程简单易行,与现行Si基半导体工艺具有良好的兼容性。

著录项

  • 公开/公告号CN111341874A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥工业大学;

    申请/专利号CN202010156792.7

  • 申请日2020-03-09

  • 分类号

  • 代理机构安徽省合肥新安专利代理有限责任公司;

  • 代理人卢敏

  • 地址 230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号

  • 入库时间 2023-12-17 10:12:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/109 申请日:20200309

    实质审查的生效

  • 2020-06-26

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号