具有增强的共平面性的微复制型抛光表面

摘要

一种制品包括抛光层，该抛光层包括由多个通道分隔的多个凸起单元。该多个凸起单元中的每个包括：微结构化工作表面；基本上竖直的通道表面；以及偏移表面，该偏移表面位于工作表面的边缘与通道表面的上边缘之间。微结构化工作表面包括多个微结构。该多个微结构的顶部限定顶部平面，并且该多个微结构的基部限定基部平面。基本上竖直的通道表面限定多个通道中的通道的壁，并且通道表面限定通道平面。偏移表面包括移位的材料的非平面部分。移位的材料限定位于基部平面的下方或位于顶部平面的容差内的移位平面。