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单层石墨烯的双面掺杂及多层石墨烯的双侧掺杂方法

摘要

本发明提供了单层石墨烯的双面掺杂及多层石墨烯的双侧掺杂方法,涉及二维材料的加工改性和器件应用技术领域。本发明的单层石墨烯的双面掺杂或多层石墨烯的双侧掺杂,包括单层或多层石墨烯薄膜的生长、一面或一侧掺杂层的生成、柔性支撑层的生成、催化金属衬底的去除、另一面或另一侧掺杂层的生成这些步骤,利用柔性支撑层转移单层或多层石墨烯前后的两个阶段,分别对石墨烯薄膜的两个面进行掺杂材料的修饰,以实现单层或多层石墨烯的双面或双侧掺杂,相较于传统的石墨烯单侧顶掺杂工艺,双面或双侧掺杂的方法显著提高石墨烯的导电性,且能带的可调节范围更广泛,改善了石墨烯基电子器件的性能并能满足不同的应用需求。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01B32/186 申请日:20200303

    实质审查的生效

  • 2020-06-26

    公开

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