半导体设备工艺腔室的清洁装置以及清洁方法

摘要

本发明提供一种半导体设备工艺腔室的清洁装置以及清洁方法，该清洁装置包括：固定盘和套设在所述固定盘上的膨胀件，其中，所述固定盘上开设有通气孔，当所述固定盘放置在所述工艺腔室中的卡盘组件上时，所述通气孔与所述卡盘组件的气道连通；所述膨胀件的表面设置有粘合层，当通过所述气道及所述通气孔向所述膨胀件中充气时，所述膨胀件可膨胀至与所述工艺腔室内部表面的至少一部分接触，以通过所述粘合层粘除所述工艺腔室内部表面上的附着物，当通过所述气道及所述通气孔从所述膨胀件中抽气时，所述膨胀件可收缩至原状。通过本发明，缩短了维护半导体设备工艺腔室所耗时间。