首页> 中国专利> 系统、光刻设备和减少衬底支撑件上的氧化或去除衬底支撑件上的氧化物的方法

系统、光刻设备和减少衬底支撑件上的氧化或去除衬底支撑件上的氧化物的方法

摘要

一种系统,包括:衬底支撑件,所述衬底支撑件配置成保持衬底;导电或半导电元件,所述导电或半导电元件与衬底支撑件接触并覆盖衬底支撑件的至少一部分;和充电装置,所述充电装置配置成相对于衬底支撑件的被导电或半导电元件覆盖的部分向所述导电或半导电元件施加正电位。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180608

    实质审查的生效

  • 2020-02-21

    公开

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