公开/公告号CN110832399A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-02-21
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201880044201.8
申请日2018-06-08
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王璐璐
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2023-12-17 08:42:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-17
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180608
实质审查的生效
2020-02-21
公开
公开
机译: 用于减少衬底支撑件上的氧化或去除氧化物的系统,光刻设备和方法
机译: 系统,光刻设备以及减少衬底支撑件上的氧化或去除氧化物的方法
机译: 系统,光刻设备和用于在基板支撑件上减少氧化或去除氧化物的方法