气相生长装置及气相生长方法

摘要

实施方式的气相生长装置具备：反应室；基板保持部，设置于反应室之中，能够载置基板，具有能够具有规定的间隙地保持基板的外周的保持壁；过程气体供给部，设置于反应室的上方，具有第1区域和第2区域，该第1区域对反应室供给第1过程气体，该第2区域设置于第1区域的周围，能够对反应室供给与第1过程气体相比碳/硅原子比更高的第2过程气体，第2区域的内周直径为保持壁的直径的75％以上130％以下；侧壁，设置于反应室之中的、过程气体供给部与基板保持部之间的区域，内周直径为第2区域的外周直径的110％以上200％以下；第1加热器，设置于基板保持部的下方；第2加热器，设置于侧壁与反应室的内壁之间；及旋转驱动机构，使基板保持部旋转。