公开/公告号CN110891366A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-03-17
原文格式PDF
申请/专利权人 奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司;
申请/专利号CN201910850889.5
申请日2019-09-10
分类号
代理机构成都超凡明远知识产权代理有限公司;
代理人王晖
地址 奥地利莱奥本
入库时间 2023-12-17 07:00:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-10
实质审查的生效 IPC(主分类):H05K1/03 申请日:20190910
实质审查的生效
2020-03-17
公开
公开
机译: 具有光模可介电层的组分载体和结构化导电层用作用于选择性地暴露具有电磁辐射的光模可介电层的掩模
机译: 具有光成像介电层和结构化导电层的成分载体被用作掩模,以选择性地暴露具有电磁辐射的光成像介电层
机译: 层布置的生产,用于集成电路的制造,例如晶体管,包括形成第一导电层,结构辅助层和介电层,以及结构化介电层