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检测影响COA基板拼接曝光缺陷的方法

摘要

一种检测影响COA基板拼接曝光缺陷的方法,通过测量各不同拼接区内相连的两个所述色阻层搭接处的长度值、高度值以及所述色阻层的开口的宽度值和长度值,并将所述色阻层搭接处的长度值与数据线的预设宽度值进行比较;再分别测量各不同拼接区内相连的两个所述色阻层搭接处对应的液晶层之间的间隔柱的高度值;最终找出影响COA基板拼接曝光的缺陷,在后续生产中加以管控;有益效果:首先,通过对所述色阻层搭接处的长度值、高度值以及液晶层之间的间隔柱的高度值等关键尺寸的测量,并绘制相关影响曲线,找出影响COA基板拼接曝光缺陷的关键因素;其次,再通过对影响COA基板拼接曝光缺陷的关键因素的控制,改善所述拼接曝光产品的色差和外观缺陷等问题。

著录项

  • 公开/公告号CN110687704A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201911014291.9

  • 发明设计人 汪正和;

    申请日2019-10-23

  • 分类号

  • 代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄灵飞

  • 地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

  • 入库时间 2023-12-17 06:13:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02F1/13 申请日:20191023

    实质审查的生效

  • 2020-01-14

    公开

    公开

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