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半导体制程机台及其半导体制程

摘要

一种半导体制程机台,包括制程腔体、第一门板、冷却腔体及第二门板。制程腔体具有第一出入口。冷却腔体与制程腔体相邻,冷却腔体具有第二出入口。第一门板配置于制程腔体与冷却腔体之间,适于开启或关闭第一出入口,当第一出入口为开启状态时,制程腔体与冷却腔体相连通。第二门板用以开启或关闭第二出入口。本发明另提出一种使用上述机台的半导体制程。与现有在加热制程后仍将半导体基材留置于制程腔体内进行降温的做法相较之下,使用本发明的半导体制程机台可有效提升半导体基材在加热制程后的降温速度,进而提升整体制程效率。

著录项

  • 公开/公告号CN104253065A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-12-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 技鼎股份有限公司;

    申请/专利号CN201310267838.2

  • 申请日2013-06-28

  • 分类号H01L21/67;H01L21/02;

  • 代理机构上海波拓知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨波

  • 地址 中国台湾新竹市光复路二段二巷四十七号四楼

  • 入库时间 2023-12-17 02:39:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-14

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/67 申请公布日:20141231 申请日:20130628

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-01-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/67 申请日:20130628

    实质审查的生效

  • 2014-12-31

    公开

    公开

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