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制程生成方法、使用了生成的制程的半导体器件的制造方法、基板处理装置及制程生成程序

摘要

使具备选择画面区域和参数编辑画面区域的制程编辑画面显示于显示部,受理从显示于选择画面区域的参数的一览表选择作为编辑对象的参数的选择操作,其中该选择画面区域显示用于对基板处理装置的制程所包含的参数进行选择的参数一览表,该参数编辑画面区域用于编辑参数。使时间图以能够编辑的方式显示于参数编辑画面区域,受理对时间图进行编辑的操作指示,根据操作指示使时间图的显示变化而对作为编辑对象的参数进行编辑,其中该时间图是用于编辑通过选择操作而被选择的作为编辑对象的参数的时间图,且在制造工序所包含的一系列步骤的各步骤的时刻下发生变化。

著录项

  • 公开/公告号CN113424294A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社国际电气;

    申请/专利号CN201980091910.6

  • 发明设计人 关贵敏;

    申请日2019-03-20

  • 分类号H01L21/02(20060101);H01L21/31(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人陈伟;沈静

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 12:38:50

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