公开/公告号CN103869624A
专利类型发明专利
公开/公告日2014-06-18
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华虹宏力半导体制造有限公司;
申请/专利号CN201210544221.6
申请日2012-12-14
分类号G03F7/16;B05B1/00;
代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;
代理人刘昌荣
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
入库时间 2024-02-20 00:11:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-26
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/16 申请公布日:20140618 申请日:20121214
发明专利申请公布后的视为撤回
2014-07-16
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/16 申请日:20121214
实质审查的生效
2014-06-18
公开
公开
机译: 光刻胶涂布装置及涂布方法具有利用该光刻胶的喷嘴监视部。
机译: 光刻胶显影喷嘴,光刻胶显影装置和光刻胶显影方法
机译: 光刻胶显影喷嘴,光刻胶显影装置和光刻胶显影方法