Korea Kumho Petrochemical Co., Ltd., Electronic Materials Division, # 604, Namsung-Ri, Shinchang-Myon, Asan-City, Chungnam, 336-880, Korea;
defect; particle; 193-nm; ArF; dispense nozzle; particle;
机译:新型ArF光致抗蚀剂聚合物,可抑制等离子蚀刻过程中形成粗糙度
机译:聚合物主链结构对等离子刻蚀过程中ArF光致抗蚀剂粗糙度形成的影响
机译:聚合物侧链结构对等离子刻蚀过程中ArF光致抗蚀剂粗糙度形成的影响
机译:制造生产线轨道喷嘴中ARF光致抗蚀剂和缺陷的聚合物平台的相关性
机译:光刻胶工艺的中尺度模拟和按形状索引的水凝胶生物传感器阵列平台。
机译:无线角度和位置跟踪概念用于高级半自动化制造过程的实时数据控制
机译:XTC光刻工艺ARF光刻胶的设计与开发