蚀刻溶液,用于制造压电元件的方法以及蚀刻方法

摘要

本发明提供了一种用于蚀刻压电薄膜的蚀刻溶液，用于制造压电元件的方法以及蚀刻方法，其中所述压电薄膜具有在形成于衬底（substrate）上的下部电极上生长成柱状结构的钙钛矿结构的薄膜，并且在薄膜与所述下部电极的界面上具有烧绿石层，其中所述蚀刻溶液至少包含：包含缓冲氢氟酸（BHF）、氟化氢（HF）以及稀释的氢氟酸（DHF）这三个中至少任一个的氢氟酸型化学制品；以及硝酸，并且具有按重量计小于10%的盐酸浓度以及为1/4或更小的盐酸与硝酸的重量比（盐酸/硝酸）。本发明还提供了一种制造压电元件的方法以使用蚀刻溶液执行蚀刻。