An etching mask and a method to produce an etching mask

机译：蚀刻掩模和制造蚀刻掩模的方法

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Rasappa Sozaraj; Ndoni Sokol; Schulte Lars; Morris Michael A.; Borah Dipu; Senthamaraikannan Ramsankar;
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年度 2016
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1. Impact of size distributions of Ge islands as etching masks for anisotropic etching on formation of anti-reflection structures [J] . Ota Yushi, Yurasov Dmitry, Novikov Alexey, Japanese journal of applied physics . 2019,第4期

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2. A Novel Thermally Evaporated Etching Mask for Low-Damage Dry Etching [J] . Hanbin Wang, Yiming Wang, Gengchang Zhu, IEEE transactions on nanotechnology . 2017,第2期

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3. Chlorine-based inductively coupled plasma etching of GaAs wafer using tripodal paraffinic triptycene as an etching resist mask [J] . Matsutani Akihiro, Ishiwari Fumitaka, Shoji Yoshiaki, Japanese journal of applied physics . 2016,第6s1期

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4. DEEP ANISOTROPIC ETCHING OF GAAS WITH CHLORINE-BASED CHEMISTRIES AND SU-8 MASK USING RIE AND HIGH DENSITY ICP ETCHING METHODS [C] . Yuh-Min (Johnson) Chiang, Joy Lau, Mark Bachman, Symposium on BioMEMS and Bionanotechnology, Apr 1-3, 2002, San Francisco, California . 2002

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