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一种提高栅极侧墙间隔层厚度均匀度的方法

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摘要

本发明公开了一种提高栅极侧墙间隔层厚度均匀度的方法，其包括提供一具有栅极结构的半导体硅片；其中，反应周期包括：通入前驱体特气至硅片表面吸附饱和，通入清洗气体，通入反应特气与硅片表面吸附的前驱体特气进行反应，再通入清洗气体；重复所述反应周期，沉积间隔SiO

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-03-01

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/285 申请公布日:20140319 申请日:20131122

发明专利申请公布后的驳回
2014-04-16

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/285 申请日:20131122

实质审查的生效
2014-03-19

公开

公开

1. 一种提高栅极侧墙间隔层厚度均匀度的方法 [P] . 中国专利： CN103646864A . 2014-03-19
2. 提高栅极侧壁氧化层厚度一致性的方法及栅极的制造方法 [P] . 中国专利： CN101572230A . 2009-11-04
3. METHOD OF FORMING GATE SPACER OF SEMICONDUCTOR DEVICE TO SECURE LINE WIDTH OF GATE SPACER AND INCREASE UNIFORMITY TO SUBSTRATE LOSS [P] . 韩国专利： KR20050011480A . 2005-01-29

机译：形成半导体器件的栅极间隔以确保栅极间隔的线宽并增加均匀度以消除损耗的方法
4. Vertical FETs with different gate lengths and spacer thicknesses [P] . 美国专利： US10141448B1 . 2018-11-27

机译：具有不同栅极长度和间隔层厚度的垂直FET
5. A method of generating transgenic plants encoding fructose 1,6 bisphosphate aldolase (fda) for increasing carbon assimilation for increasing solids uniformity for french fry and chipping industries [P] . NZ501781A . 2001-07-27

机译：一种生成编码果糖1,6双磷酸醛缩酶（fda）的转基因植物的方法，以提高碳同化作用，从而提高炸薯条和切片行业的固体均匀度