法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-12-08
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/311 申请公布日:20130703 申请日:20080519
发明专利申请公布后的驳回
2013-07-31
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/311 申请日:20080519
实质审查的生效
2013-07-03
公开
公开
机译: 有源硬掩膜的等离子蚀刻过程中的原位光刻胶剥离
机译: 有源硬掩膜的等离子蚀刻过程中的原位光刻胶剥离
机译: 有源硬掩膜的等离子蚀刻过程中的原位光刻胶剥离