公开/公告号CN103049589A
专利类型发明专利
公开/公告日2013-04-17
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华虹NEC电子有限公司;
申请/专利号CN201110312430.3
发明设计人 武洁;
申请日2011-10-14
分类号G06F17/50;
代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;
代理人张骥
地址 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
入库时间 2024-02-19 18:33:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-06-22
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G06F17/50 申请公布日:20130417 申请日:20111014
发明专利申请公布后的视为撤回
2014-02-05
专利申请权的转移 IPC(主分类):G06F17/50 变更前: 变更后: 登记生效日:20140107 申请日:20111014
专利申请权、专利权的转移
2013-05-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20111014
实质审查的生效
2013-04-17
公开
公开
机译: 用作高压晶体管的横向扩散金属氧化物半导体晶体管,具有结构化的介电区,该结构化介电区覆盖在漂移区上方和栅极下方的半导体主体上,其中介电区具有合适的边缘轮廓
机译: 具有复合漂移区的高压PMOS(HVPMOS)晶体管及其制造方法
机译: 具有复合漂移区的高压PMOS(HVPMOS)晶体管及其制造方法