法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-09-23
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/314 申请公布日:20130130 申请日:20110225
发明专利申请公布后的视为撤回
2013-03-13
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/314 申请日:20110225
实质审查的生效
2013-01-30
公开
公开
机译: 低介电常数层间绝缘膜及形成低介电常数层间绝缘膜的方法
机译: 低介电常数层间绝缘膜及形成低介电常数层间绝缘膜的方法
机译: 低介电常数层间绝缘膜以及形成低介电常数层间绝缘膜的方法