一种基于表面等离子体干涉的可重构亚波长光栅光刻机

摘要

本发明公开了一种基于表面等离子体干涉的可重构亚波长光栅光刻机，该光刻机包括：激光光源，光电快门，起偏器，分束镜，平面反射镜A，平面反射镜B，棱镜，匹配油，玻璃基底，金属薄膜，偶氮苯聚合物薄膜。激光光源发出的光束经起偏器后呈TM偏振，并经分束镜分成强度相等的两束，经平面反射镜后，以表面等离子体的激发角辐照到金属薄膜上，并激发多层结构中的表面等离子体波，两束波的干涉导致偶氮苯聚合物的质量迁移，从而刻写出亚波长光栅，且其周期可通过偶氮苯聚合物薄膜的厚度调节。本发明基于表面等离子体干涉场，偶氮苯聚合物薄膜，实现了大面积亚波长光栅的刻写，光刻工艺简单，无需显影、定影，且刻写的光栅可擦除和重构。