法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-12-17
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N1/28 申请日:20180223
实质审查的生效
2019-11-22
公开
公开
机译: 刻蚀硅晶片表面氧化物膜的方法,用氧化物膜对硅晶片的金属污染分析方法以及用氧化物膜制造硅晶片的方法
机译: 评估硼掺杂的p型硅晶片中的金属污染的方法,评估硼掺杂的p型硅晶片中的金属污染的装置以及制造硼掺杂的p型硅晶片的方法
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