法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H04L27/00 申请日:20190924
实质审查的生效
2019-12-31
公开
公开
机译: 半导体制造过程中的光学邻近效应校正方法和掩码数据形成方法,即使在各种情况下,无论设计图案的大小和形状以及空间大小如何,都可以正确地校正光学邻近效应,即使在各种情况下
机译: 半导体制造过程中的光学邻近效应校正方法,即使在各种情况下,无论设计图案的大小和形状如何,以及空间宽度和位置之间的关系,该方法都可以正确地校正光学邻近效应
机译: 半导体制造过程中的光学邻近效应校正方法和掩模数据形成方法,即使在设计图案的尺寸和形状以及设计图案之间的空间宽度和位置关系的各种情况下,也可以充分地校正光学邻近效应。