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一种二极管芯片多层金属化层及其制作方法

摘要

本发明提供的一种二极管芯片多层金属化层;包括基底,所述基底上制作有二氧化硅层,所述二氧化硅层上扩散有PI层,所述二氧化硅层和PI层中心制作有金属层,所述金属层为铝钛金多金层。本发明采用铝钛金多层金属化层,克服了金属化层与芯片的硅表面及表面二氧化硅膜粘附性差、顶层金属易氧化等不足,且金属化层刻蚀过程工艺简单,不会出现刻蚀速率差异较大导致的金属化层钻蚀及翘曲等不良现象,且各层金属的热匹配性好,在后续的高温钎焊过程中不出现起皮,翘曲等异常情。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/49 申请日:20190830

    实质审查的生效

  • 2019-12-03

    公开

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