用于通过调节体调节测量装置的方法、调节体以及用于调节调节体的方法

摘要

本发明涉及一种用于调节测量装置的方法，测量装置包括具有光轴的干涉仪单元、具有测量轴线的光学距离测量装置以及布置在它们之间、可沿滑动轴线移动的支撑滑块。测量装置特别用于球形工件的半径测量。测量轴线，优选地光轴，首先平行于滑动轴线对齐。具有第一球形反射和/或衍射表面和在背面的后向反射器的调节体布置在支撑滑块处。使其进入第一共焦位置，其中第一球形反射和/或衍射表面的第一中心点与从干涉仪单元发射的球形波前的焦点重合。后向反射器限定位于靠近或位于第一中心点上的顶点，使得测量轴线靠近或通过发射的球形波前的焦点延伸。因此，可在随后的球形工件的测量中减少或消除Abbe误差。本发明还涉及一种调节体及其调节方法。