公开/公告号CN110471253A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-11-19
原文格式PDF
申请/专利权人 脸谱科技有限责任公司;
申请/专利号CN201910330128.7
申请日2019-04-23
分类号
代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司;
代理人刘瑞贤
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2024-02-19 15:30:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-12-13
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20190423
实质审查的生效
2019-11-19
公开
公开
机译: 出于光学目的,压印,纳米压印光刻原版或光敏系统中的结构转移,在光学透明的塑料表面上复制微或纳米结构,使用具有抗蚀剂的可固化浇铸树脂作为原始材料
机译: 光敏化学放大抗蚀剂材料,使用该抗蚀剂材料的图案形成方法,半导体器件,光刻掩模和纳米压印模板的制造方法
机译: 光敏化学放大型抗蚀剂材料,使用该抗蚀剂材料形成图案的方法,半导体器件,用于光刻的掩模和用于纳米压印的模板