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反应腔室的压力控制系统及压力控制方法

摘要

本发明公开了一种反应腔室的压力控制系统及压力控制方法。该装置包括尾气管、缓冲冷凝容器、进气管、排气管和控制器,并且在所述进气管上设置有气体质量流量控制器,所述排气管与真空泵连接,并且在其中设置有压力传感器。控制器与所述气体质量流量控制器、真空泵、压力传感器连接,通过将所述气体质量流量控制器的控制量设置为常量或零,以使所述压力传感器采集的压力值在设定压力范围内。本发明避免了使用变频控制方法及其昂贵复杂的耐腐蚀变频隔膜泵,同时气体质量流量控制器反应快速、控制简单,因此提高了控制效率。本发明通过简单、可靠且低成本的设计大幅延长了压力控制系统的使用寿命和安全性。

著录项

  • 公开/公告号CN110538620A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京北方华创微电子装备有限公司;

    申请/专利号CN201811354718.5

  • 申请日2018-11-14

  • 分类号B01J19/00(20060101);G05D16/20(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构11218 北京思创毕升专利事务所;

  • 代理人孙向民;廉莉莉

  • 地址 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号

  • 入库时间 2024-02-19 14:44:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):B01J19/00 申请日:20181114

    实质审查的生效

  • 2019-12-06

    公开

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