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用于半导体工艺的检查设备和半导体工艺装置

摘要

提供了一种用于半导体工艺的检查设备和半导体工艺装置,该检查设备包括:传送器,被构造为在多个腔室之间传送工艺目标;至少一个线照相机,安装在传送器上方,所述至少一个线照相机被构造为通过捕获由传送器传送的工艺目标的图像来生成原始图像;以及控制器,被构造为接收原始图像并且被构造为通过校正原始图像的由于传送器的传送速度的变化导致的失真来执行工艺目标的检查。

著录项

  • 公开/公告号CN110391153A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN201910275042.9

  • 申请日2019-04-08

  • 分类号H01L21/67(20060101);H01L21/677(20060101);

  • 代理机构11286 北京铭硕知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘灿强;韩芳

  • 地址 韩国京畿道水原市

  • 入库时间 2024-02-19 14:21:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-29

    公开

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