首页> 中文期刊> 《半导体技术》 >BOC EDWARDS推出用于半导体工艺尾气处理的解决方案HELLOS 6^TM

BOC EDWARDS推出用于半导体工艺尾气处理的解决方案HELLOS 6^TM

         

摘要

马萨诸塞州成明顿(2007年5月29日),全球半导体OEM和FAB代工厂家主要真空、尾气处理、化学管理设备和服务的供应商BOC EDWARDS宣布推出HELIOS 6^TM尾气处理设备。作为HELIOS^TM尾气处理设备产品线中的最新产品,该装置可用于高流量氢工艺,如硅和锗硅外延、LPCVD钨和化合物半导体MOCVD。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号