一种用于半导体设备的尾气处理装置和半导体设备

摘要

本发明公开了一种半导体设备的尾气处理装置和半导体设备，其中，所述半导体设备包括基座环，所述尾气处理装置包括设置在所述基座环排气端的导流块、设置在所述基座环中的吹扫通道和与所述吹扫通道连通的供气组件，其中：所述供气组件，用于为所述吹扫通道提供吹扫气体；所述吹扫通道用于使用所述吹扫气体对所述导流块与所述基座环之间的间隙进行吹扫，以使工艺气体从所述间隙排出。本发明能够减少导流块外表面产生coating现象，避免导流块和基座环的粘结，方便导流块的拆卸。