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45nm以降の半導体プロセス技術-第15回半導体プロセスシンポジウム報告

机译:第45nm-15次半导体工艺研讨会报告后的半导体工艺技术

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摘要

プレスジャーナル主催の第15回半導体プロセスシンポジウム「45nmプロセス以降を実現するための技術と課題」が06年9月7日,東京·神保町の学士会館にて開催された。 座長には東京農工大学名誉教授·武田計測先端知財団常任理事の垂井康夫氏を迎えている。なお,本シンポジウムでの45nmプロセスはThe International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS)が03年のロードマップまで表記していたテクノロジーノードのことを基本的には指し示している。
机译:由新闻杂志主办的第15届半导体工艺研讨会“实现45nm工艺及更高工艺的技术和挑战”于2006年9月7日在东京都神保町的学士礼堂举行。主持人是东京农业工业大学名誉教授,武田测量高级知识基金会执行董事大井康夫先生。本次研讨会上的45纳米工艺基本上指出了国际半导体技术路线图(ITRS)直到2003年路线图所描述的技术节点。

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