对于测量光刻掩模确定成像光学单元的成像像差贡献的方法

摘要

对于测量光刻掩模确定成像光学单元的成像像差贡献包含：首先焦点相关地测量成像光学单元的3D空间像，按照通过成像光学单元对物体成像的像面的区域中以及与该像面平行的不同测量平面中的2D强度分布的序列。然后由具有散斑图案的测量的2D强度分布的傅里叶变换来确定3D空间像的散斑图案的频谱。对于频域中的多个频谱分量，然后确定所述频谱分量的实部RS(z)和虚部IS(z)的焦点相关性。从实部RS(z)和虚部IS(z)的焦点相关性的确定值，由掩模结构对散斑图案频谱做出的贡献(该贡献将被消除)然后从由成像光学单元对散斑图案频谱做出的成像像差贡献分离出。然后表示成像像差贡献。