光刻机成像光学系统像差现场测量方法

摘要

本发明公开了一种光刻机成像光学系统像差现场测量方法，包括如下步骤：标定所述成像光学系统的灵敏度矩阵；将所述光源发出的光束经过所述照明系统调整后，照射于所述掩模；所述掩模选择性地透过一部分光线；这样透过的光线经过所述成像光学系统将掩模上的图案成像；通过改变所述成像光学系统出瞳面处的光强分布，测量得到多组所述空间像线宽，而后使用所述灵敏度矩阵计算各种高级像质参数。采用本发明测量方法可简化测试流程，提高像质参数测量精度，缩短测量时间。