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时间性原子层沉积处理腔室

摘要

一种双通道喷头,包括:第一多个通道,在所述喷头的背表面中形成且从第一端延伸到第二端;第二多个通道,穿过所述喷头的厚度形成且从第一端延伸到第二端;第一端充气部,在所述第一端处与所述第二多个通道流体连接;以及第二端充气部,在所述第二端处与所述第二多个通道流体连接。亦论述了包括所述双通道喷头及阻挡环的处理腔室,所述阻挡环将边缘环与泵送环分离。

著录项

  • 公开/公告号CN110050333A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201780075506.0

  • 申请日2017-12-05

  • 分类号

  • 代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2024-02-19 12:36:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/67 申请日:20171205

    实质审查的生效

  • 2019-07-23

    公开

    公开

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