用于支撑基板的基板载体、掩模夹持设备、真空处理系统和操作基板载体的方法

摘要

本公开内容提供了根据独立权利要求的一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体、一种掩模夹持设备、一种真空处理系统和一种用于操作电永磁体元件的方法。根据本公开内容的一个方面，提供了一种用于在真空腔室中支撑基板的基板载体。所述基板载体包括电永磁体元件，其中所述电永磁体元件被配置为用于向掩模施加磁保持力。根据本公开内容的另一方面，提供了一种真空处理系统。所述真空处理系统包括真空处理腔室，所述真空处理腔室具有根据本公开内容的其它方面的至少一个基板载体或掩模夹持设备。根据本公开内容的另一方面，提供了一种用于在包括电永磁体元件的系统中操作电永磁体元件的方法。所述方法包括：在由所述基板载体支撑的基板的表面上提供掩模载体；通过施加电磁体的电流将所述电永磁体元件从非磁化状态切换到磁化状态；以及移除所述电流。