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组合磁场电弧离子镀与高功率脉冲磁控溅射复合沉积方法

摘要

组合磁场电弧离子镀与高功率脉冲磁控溅射复合沉积方法,属于材料表面处理技术领域,本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤装置传输过程中电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括:偏压电源、电弧离子镀靶源及电源、多级磁场装置及电源、活动线圈装置及电源、波形匹配装置、高功率脉冲磁控溅射靶源及电源、示波器和真空室;薄膜沉积:连接装置,启动系统,待真空室内的真空度小于10

著录项

  • 公开/公告号CN109989009A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-07-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 魏永强;

    申请/专利号CN201711488858.7

  • 申请日2017-12-30

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 450015 河南省郑州市二七区大学中路2号郑航家属院26号楼4单元2楼

  • 入库时间 2024-02-19 11:09:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/32 申请日:20171230

    实质审查的生效

  • 2019-07-09

    公开

    公开

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