法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-08-02
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/32 申请日:20171230
实质审查的生效
2019-07-09
公开
公开
机译: 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在多孔基体中进行深金属沉积,金属催化剂浸渍的多孔基质及其用途
机译: 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在多孔基体中进行深金属沉积,金属催化剂浸渍的多孔基质及其用途
机译: 制造薄膜太阳能电池的方法,涉及通过在脉冲期间具有特定脉冲频率和功率密度的脉冲磁控溅射在保护层上沉积透明导电氧化物层作为前接触层。