机译:TiAlCN / VCN纳米层涂层,适用于通过组合高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射沉积的Al和Ti合金
Nanolayers; High power impulse magnetron sputtering; Al and Ti cutting;
机译:TiAlCN / VCN纳米层涂层,适用于通过组合高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射沉积的Al和Ti合金
机译:混合高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)和不平衡磁控溅射工艺沉积的TiAlCN / VCN纳米多层涂层的性能-涂层期间HiPIMS的影响
机译:结合高功率脉冲磁控溅射/不平衡磁控溅射(HIPIMS / UBM)技术沉积的CrAlYCN / CrCN纳米多层PVD涂层
机译:高功率脉冲磁控溅射蚀刻不平衡磁控溅射沉积(HIPIMS / UBM)工艺沉积的工业化生产耐腐蚀CrN / NbN涂层
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:Ti6Al7Nb衬底上磁控溅射制备的Si-DLC涂层的表面特性和生物学评价
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长