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基于非晶衬底生长氮化物的方法及结构

摘要

一种基于非晶衬底生长氮化物的方法及结构,该方法包括以下步骤:在非晶组合衬底上沉积薄层二氧化硅,通过纳米压印的方式在非晶组合衬底上制备出二氧化硅阵列孔,对非晶衬底上的二氧化硅进行过腐蚀,将阵列孔底部的二氧化硅腐蚀掉,露出衬底部分;再以具有阵列孔的二氧化硅层作为掩模,在非晶组合衬底上选区生长氮化物材料。本发明提高了非晶组合衬底上外延氮化物材料的晶体质量,促进了基于氮化物材料的光电器件及电子电力器件的发展,有利于推动产业进步。

著录项

  • 公开/公告号CN109585270A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201811362745.7

  • 发明设计人 梁冬冬;魏同波;闫建昌;王军喜;

    申请日2018-11-15

  • 分类号H01L21/02(20060101);H01L31/18(20060101);H01L33/00(20100101);H01L29/06(20060101);H01L31/0352(20060101);H01L33/20(20100101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人喻颖

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2024-02-19 09:40:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20181115

    实质审查的生效

  • 2019-04-05

    公开

    公开

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