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真空系统和用于在基板上沉积多个材料的方法

摘要

描述一种用于在基板上沉积多个材料的真空系统(100)。真空系统包括多个沉积模块(110),多个沉积模块(110)沿着主传送方向(P)布置并且包括沉积源(105),沉积源(105)在主传送方向(P)中是可移动的;和传送系统,具有多个轨道(120),多个轨道于主传送方向(P)中延伸通过多个沉积模块并且包括用于掩模传送的第一掩模轨道(121)、用于基板传送的第一基板轨道(122)和用于返回空的载体的返回轨道(123)。

著录项

  • 公开/公告号CN109154063A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201780011610.3

  • 发明设计人 奥利弗·海姆尔;

    申请日2017-04-28

  • 分类号C23C14/04(20060101);C23C14/12(20060101);C23C14/56(20060101);H01L51/00(20060101);H01L21/67(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;赵静

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2024-02-19 09:35:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/04 申请日:20170428

    实质审查的生效

  • 2019-01-04

    公开

    公开

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