法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-01-29
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/04 申请日:20170428
实质审查的生效
2019-01-04
公开
公开
机译: 用于在真空沉积工艺中将材料沉积在基板上的设备,用于在基板上进行溅射沉积的系统以及制造用于在基板上进行材料沉积的设备的方法
机译: 用于在基板上沉积材料的设备,用于在基板上沉积一层或多层的系统以及用于监视真空沉积系统的方法
机译: 用于在基板上沉积材料的设备,用于在基板上沉积一层或多层的系统以及用于监控真空沉积系统的方法