一种基于PDMS软掩模的表面等离子体光刻方法

摘要

本发明公开了一种基于PDMS(Polydimethylsiloxane)软掩模的表面等离子体光刻方法。该光刻方法利用的光刻系统由四部分构成：PDMS软掩模，薄银层，光刻胶以及基底。将传统表面等离子体光刻系统中的硬掩模改进为PDMS透明软掩模，发明了一种基于PDMS软掩模的特征尺寸可控的表面等离子体光刻系统。相比传统表面等离子体光刻方法，该方法利用PDMS透明软掩模和表面等离子体形成了高对比度的纳米量级电场能量分布，获得了经济、重复利用率高的表面等离子体光刻系统，为实用化纳米结构的制作提供了途径。